Semiconductor Engineering· Jan Willis·· 9 小时前
eBeam 调查：66% 专家预计十年内采用大尺寸掩模
Large-Format Masks Move From Aspiration To Industry Roadmap
事实摘要
eBeam Initiative 于 7 月完成的第 15 届 Luminaries 调查显示，66% 的受访专家预计行业将在十年内采用约 6 x 12 英寸的大尺寸掩模，该结果于 9 月 9 日公布。
原文与核验
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正文 · 原文摘要
Expert panel sees a compelling productivity case, but the entire photomask ecosystem must be ready together. The post Large-Format Masks Move From Aspiration To Industry Roadmap appeared first on Semiconductor Engineering .
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