ASML与台积电拟以12英寸光罩推进High NA EUV
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ASML与台积电拟以12英寸光罩推进High NA EUV
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ASML与台积电宣布，计划用12英寸光罩取代沿用数十年的6英寸规格，以推进High NA EUV光刻，目标定在2031年。两家公司在2026年9月SPIE BACUS研讨会前公布了这一计划。 据DigiTimes报道，这一2031年目标将给High NA EUV相关供应商带来时间压力。
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最新进展11月5日 07:38
ASML与台积电推进High NA EUV光罩改用12英寸报道时间线
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11月5日
- DigiTimesASML与台积电推进High NA EUV光罩改用12英寸
ASML与台积电在2026年9月SPIE BACUS研讨会前宣布，计划以12英寸光罩取代沿用数十年的6英寸规格，以推进High NA EUV光刻。DigiTimes指出，两家公司设定的2031年光罩目标将给High NA EUV供应商带来时间压力。
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