中科院等团队发表Pt-W合金EUV掩模吸收层研究

中国科学院、吉林大学等单位的研究人员于2026年8月在 iScience 发表论文《Evaluating an alternative Pt-W alloy as a low-n EUV mask absorber: Film properties and imaging performance》，评估铂-钨（Pt-W）合金作为下一代低折射率 EUV 掩模吸收层的可行性。 研究聚焦薄膜性质与成像表现，针对的是 High-NA EUV 光刻所需的掩模吸收层材料。论文结论以发表内容为准，目前尚无独立验证或量产应用的报道。

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还没有足够的连续观测数据，暂不绘制趋势。