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上海微电子展新一代干式光刻机平台模型

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AI 综述

上海微电子（SMEE）在第九届进博会展出自研新一代前道干式光刻机通用技术平台模型，以透明剖视方式展示光学光路与机电系统布局。该平台适配 I-line、KrF 两类技术路线，公司称物镜与照明系统、双工件台、物料传输与对准调平系统均实现全链条自主可控。上海微电子称，国产前道干式光刻机成像性能已与国际同类领先产品相当，套刻精度、生产效率紧密追赶国际标杆；多台设备已在国内头部逻辑、存储量产线长期稳定运行，累计支持产线流片超千万片，设备有效运行率超 92%。上述性能与运行数据均为公司说法。

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最新进展11月8日 16:36

上海微电子进博会展示新一代前道干式光刻机平台模型

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11月8日

16:36
IT之家
上海微电子进博会展示新一代前道干式光刻机平台模型
上海微电子（SMEE）在第九届进博会上展出自研新一代前道干式光刻机通用技术平台模型，采用透明剖视设计展示光学光路与机电系统布局。该平台适配 I-line、KrF 两类技术路线，公司称物镜与照明系统、双工件台、物料传输与对准调平系统均实现全链条自主可控。文中称国产前道干式光刻机成像性能已与国际同类领先产品相当，多台设备在国内逻辑、存储量产线运行，累计流片超千万片，有效运行率超 92%。

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